显影方法与显影设备专利登记公告

专利名称：显影方法与显影设备

摘要：本发明提供了一种显影方法和一种显影设备。显影方法包括如下步骤：在转盘上设置抗蚀剂基板，抗蚀剂基板包括基板、形成在基板上的无机抗蚀剂层和通过曝光形成的潜像；释放显影剂到无机抗蚀剂层的上表面上的显影剂涂布位置，同时转动转盘，显影剂涂布位置远离抗蚀剂基板的中心；用激光辐照无机抗蚀剂层的上表面上的监测位置，监测位置与显影剂涂布位置不同；以及连续释放显影剂，同时检测无机抗蚀剂层的上表面反射的激光的零级光和一级光的光量，并且监测一级光对零级光的光量比，直到光量比变为预定值。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910225941.4

专利申请（专利权）人：索尼碟片数位解决方案股份有限公司

专利发明（设计）人：青木忠久

主权项：一种显影方法，包括步骤：在可转动的转盘上设置抗蚀剂基板，所述抗蚀剂基板包括基板、形成在所述基板上的无机抗蚀剂层和通过使所述无机抗蚀剂层曝光而形成的潜像；释放显影剂到所述无机抗蚀剂层的上表面上的显影剂涂布位置，同时转动所述转盘，所述显影剂涂布位置远离所述抗蚀剂基板的中心；用激光辐照所述无机抗蚀剂层的上表面上的监测位置，所述监测位置与所述显影剂涂布位置不同；以及连续释放所述显影剂，同时检测由所述无机抗蚀剂层的上表面反射的所述激光的零级光和一级光的光量，并且监测所述一级光对所述零级光的光量比，直到所述光量比变为

专利地区：日本