使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备专利登记公告

专利名称：使用溶液基前体的原子层沉积方法和设备

摘要：提供了溶液稳定和输送技术与特殊的ALD操作的独特组合。使用溶解在溶剂中的宽范围的低挥发性固体ALD前体。不稳定的溶质可在溶液中稳定，并且所有溶液都可在室温下输送。在溶液蒸发之后，汽相前体和溶剂被脉冲输送到沉积室中以确保真实的ALD膜生长。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910258557.4

专利申请（专利权）人：波克股份有限公司

专利发明（设计）人：C·马;Q·M·王;P·J·赫尔亚;R·霍格尔

主权项：一种原子层沉积方法，它包括：交替地将蒸发的前体溶液和蒸发的反应溶液输送到沉积室中；在沉积室中的基材表面上形成所述前体溶液和反应溶液的组分的单层；重复上述步骤直至形成预定厚度的薄膜；其中，所述蒸发的前体溶液包含溶解在溶剂中的一种或多种低挥发性前体；在恒定的泵速下操作与蒸发器连接的真空泵，使所述前体溶液在室温下被输送到蒸发器中蒸发，而不分解或凝结。

专利地区：美国