处理装置和加热器单元专利登记公告

专利名称：处理装置和加热器单元

摘要：本发明提供一种处理装置和加热器单元，该处理装置的特征在于，一边加热被处理体一边进行处理，该处理装置包括：处理容器；配置在该处理容器内，载置所述被处理体的载置台；和埋设在该载置台内，用于通过加热所述载置台而加热被载置的所述被处理体的加热器，所述加热器被配置在所述载置台的表面与背面之间的中央，沿着该表面埋设有电极，沿着该背面埋设有由与该电极相同的材料形成的增强部件。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010157610.4

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：村上诚志;多田国弘

主权项：一种处理装置，一边加热被处理体一边进行处理，其特征在于，包括：处理容器；配置在该处理容器内，载置所述被处理体的载置台；和埋设在该载置台内，用于通过加热所述载置台而加热被载置的所述被处理体的加热器，所述加热器被配置在所述载置台的表面与背面之间的中央，沿着该表面埋设有电极，沿着该背面埋设有由与该电极相同的材料形成的增强部件。

专利地区：日本