ALD装置和方法专利登记公告

专利名称：ALD装置和方法

摘要：本发明提供了ALD装置和方法，其中，一种设于具有反应器容器壁的反应器容器中的周边狭槽阀包括：基板传输狭槽，其穿过反应器容器壁；连续周边腔，其位于反应器容器壁内；连续周边密封提升头；以及致动器，其用于在打开位置和关闭位置之间移动密封提升头；密封提升头当处于关闭位置上时移入周边腔，当处于打开位置上时移出周边腔，基板传输狭槽与基板保持器的基板支承面大致共面，周边腔与基板传输狭槽大致共面，基板传输狭槽在密封提升头处于打开位置上时限定一条穿过反应器容器壁直至基板保持器的基板传输通道，并且密封提升头在其处于关闭位置上

专利类型：发明专利

专利号：CN201010154378.9

专利申请（专利权）人：松德沃技术公司

专利发明（设计）人：奥弗·斯内

主权项：一种设于具有反应器容器壁的反应器容器中的周边狭槽阀，包括：一个基板传输狭槽，其穿过所述反应器容器壁；一个连续周边腔，其位于所述反应器容器壁内；一个连续周边密封提升头；以及一个致动器，其用于在打开位置和关闭位置之间移动所述密封提升头；其中，所述密封提升头当处于所述关闭位置上时移入所述周边腔，当处于所述打开位置上时移出所述周边腔，所述基板传输狭槽与所述基板保持器的基板支承面大致共面，所述周边腔与所述基板传输狭槽大致共面，所述基板传输狭槽在所述密封提升头处于所述打开位置上时限定一条穿过所述反应器容器壁直至所述基

专利地区：美国