溅射设备、双旋转挡板单元以及溅射方法专利登记公告

专利名称：溅射设备、双旋转挡板单元以及溅射方法

摘要：本发明提供了一种溅射设备、双旋转挡板单元以及溅射方法。两个挡板形成双旋转挡板机构。圆柱形的第二沉积护罩置于靶侧的第一挡板与第二挡板之间，以围绕形成在第一挡板中的第一开口。圆柱形的第一沉积护罩置于溅射阴极与第一挡板之间，以围绕靶的前表面区域。这能够防止溅射物质通过第一挡板与第二挡板之间的间隙以及第一挡板与溅射阴极之间的间隙，并继而防止产生任何交叉污染。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010121189.1

专利申请（专利权）人：佳能安内华股份有限公司

专利发明（设计）人：广见太一;村上匡章

主权项：一种溅射设备，包括：布置在真空容器中的多个溅射阴极；包括第一挡板和第二挡板的双旋转挡板机构，所述第一挡板和第二挡板布置成在面对所述溅射阴极的同时能够独立地旋转，并且所述第一挡板和第二挡板每个都包括在预定位置处形成在其中的至少一个开口，所述第二挡板与所述溅射阴极之间的距离大于所述第一挡板与所述溅射阴极之间的距离；以及置于所述溅射阴极与所述第一挡板之间的第一沉积护罩，所述第一沉积护罩横向地围绕所述溅射阴极的位于所述第一挡板这一侧的前表面区域。

专利地区：日本