制造微结构的方法及该微结构专利登记公告

专利名称：制造微结构的方法及该微结构

摘要：本发明是有关于一种制造微结构的方法及该微结构。该方法包含：在一基材上形成一光固化材料层；提供一图案化遮蔽层；使一第一光源通过该图案化遮蔽层，用以图案化地局部曝光该光固化材料层，使得该光固化材料层的曝光区产生固化反应，借此使得该光固化材料层的未曝光区中的可光固化组成物朝该曝光区流动，进而使得该光固化材料层形成一具有一凸状固化区与一凹状未固化区的图案化微结构；以及进一步固化该微结构，使该光固化材料层中的凹状未固化区中的可光固化组成物固化，以使该凹状未固化区形成凹状固化区。本发明无须使用器具或药剂以物理性或化学

专利类型：发明专利

专利号：CN201010589803.7

专利申请（专利权）人：远东新世纪股份有限公司

专利发明（设计）人：邱大任;洪维泽;林士越;陈秋芳;陈姿颖

主权项：一种制造微结构的方法，其特征在于：在一基材上形成一光固化材料层，该光固化材料层是由一可光固化组成物所构成，该可光固化组成物包含至少一种具有多个官能团的可光固化化合物，且该可光固化化合物具有70?700的官能团当量；提供一图案化遮蔽层，以局部地遮蔽该基材与该光固化材料层的组合；使一第一光源通过该图案化遮蔽层，用以图案化地曝光该光固化材料层，使得该光固化材料层中的曝光区产生固化反应，借此使得该光固化材料层的未曝光区中的该可光固化组成物朝该曝光区流动，进而使得该光固化材料层表面形成一具有一凸状固化区与一凹状未固

专利地区：台湾