类钻碳膜及其制作方法专利登记公告

专利名称：类钻碳膜及其制作方法

摘要：一种类钻碳膜，包含：一类钻碳附着层设于一基材及一类钻碳强化层设于该类钻碳附着层的表面；其中，该类钻碳附着层的石墨结构所占的比例高于该类钻碳强化层的石墨结构所占的比例。该类钻碳膜的制作方法是包含：将一基板置于一反应腔体中；将一含碳气体通入该反应腔体中，并以一离子源提供该含碳气体701～3000eV的解离能量，使该含碳气体于该基板的表面沉积形成一类钻碳附着层；以该离子源提供该含碳气体100～700eV的解离能量，使该含碳气体于该类钻碳附着层沉积形成一类钻碳强化层。本发明通过高能量离子源提供高解离能量使该含碳气

专利类型：发明专利

专利号：CN201010600156.5

专利申请（专利权）人：财团法人金属工业研究发展中心

专利发明（设计）人：黄家宏;林昭宪;吴政谚;高于迦

主权项：一种类钻碳膜的制作方法，其特征在于，包含：一个前置步骤，将基板置于一个反应腔体中；一个类钻碳附着层制作步骤，将含碳气体通入该反应腔体中，并以离子源使该含碳气体解离，并具备701～3000eV的解离能量，使该含碳气体于该基板的表面沉积形成一个类钻碳附着层；及一个类钻碳强化层制作步骤，以该离子源使该含碳气体解离，并具备100～700eV的解离能量，使该含碳气体进一步于该类钻碳附着层沉积形成一个类钻碳强化层。

专利地区：台湾