一种测量装置及方法专利登记公告

专利名称：一种测量装置及方法

摘要：本发明提供一种长行程工件台测量装置及方法，应用在第一方向和第二方向上互相垂直的两套测量系统，通过所述测量系统中的移动干涉仪与工件台反射镜分别监控测量工件台沿着该第一或第二方向的移动位置，通过所述测量系统中的固定干涉仪与干涉仪反射镜补偿所述移动干涉仪与工件台反射镜对工件台移动位置测量的误差，避免大尺寸长条形反射镜的加工制造困难，实现工件台长行程位置高精度测量。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010618424.6

专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司

专利发明（设计）人：唐广繁;韩良华

主权项：一种测量装置，应用于光刻机系统的长行程工件台的精密移动和位置测量，其特征在于，包括在第一方向和第二方向上互相垂直的两套测量系统，所述测量系统包括：移动干涉仪，位于所述工件台移动方向的平行线上，与所述工件台同步移动；工件台反射镜，安装在所述工件台边缘同步移动并光路连接所述移动干涉仪；干涉仪反射镜，安装固定在所述移动干涉仪的一侧；固定干涉仪，安装固定于所述干涉仪反射镜远离所述移动干涉仪的一侧，并光路连接所述干涉仪反射镜。

专利地区：上海