光刻设备及测量多光斑零位偏差的方法专利登记公告

专利名称：光刻设备及测量多光斑零位偏差的方法

摘要：本发明公开一种光刻设备，包括：光源，用以提供曝光光束；投影系统，用以将所述位于掩模板上的图形投影在基板上；工件台系统，用以移动所述基板；调焦调平系统，用以测量所述基板的垂向位置和倾向角度；其特征在于，所述光刻设备还包括一反射镜和一激光干涉仪，所述激光干涉仪的光轴与所述反射镜的反射面相垂直，所述反射镜的反射面与所述投影系统的最佳焦平面平行。本发明同时公开一种测量多光斑零位偏差的方法，利用该方法可实现使用普通平面的情况下能够准确测量多光斑零位偏差，消除了被测表面形貌起伏对高度测量的影响。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010619282.5

专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司

专利发明（设计）人：魏礼俊;陈飞彪;李志丹;潘炼东

主权项：一种光刻设备，包括：光源，用以提供曝光光束；投影系统，用以将所述位于掩模板上的图形投影在基板上；工件台系统，用以移动所述基板；调焦调平系统，用以测量所述基板的垂向位置和倾向角度；其特征在于，所述光刻设备还包括一反射镜和一激光干涉仪，所述激光干涉仪的光轴与所述反射镜的反射面相垂直，所述反射镜的反射面与所述投影系统的最佳焦平面平行。

专利地区：上海