一种光刻曝光系统集成装配方法专利登记公告
专利名称:一种光刻曝光系统集成装配方法
摘要:本发明一种光刻曝光系统的光学集成装配方法,包括下述步骤:第一步,利用点能量传感器和投影物镜对准掩模标定投影物镜最佳像面的中心和方向;第二步,测量曝光系统的远心,根据远心值计算照明模块相对于所述投影物镜的倾斜;第三步,测量所述投影物镜对准掩模中心小孔和照明对准工装中心小孔的位置偏差,计算所述照明模块相对于所述投影物镜的偏心;第四步,测量所述投影物镜对准掩模多个辅助小孔和照明对准工装多个辅助小孔的位置偏差,计算所述照明模块相对于所述投影物镜的旋转;第五步,测量所述照明对准工装中心小孔的半影宽度以计算所述照明模
专利类型:发明专利
专利号:CN201010619287.8
专利申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司
专利发明(设计)人:郭勇;储兆祥
主权项:一种光刻曝光系统的光学集成装配方法,包括下述步骤:第一步,利用点能量传感器和投影物镜对准掩模标定投影物镜最佳像面的中心和方向;第二步,测量曝光系统的远心,根据远心值计算照明模块相对于所述投影物镜的倾斜;第三步,测量所述投影物镜对准掩模中心小孔和照明对准工装中心小孔的位置偏差,计算所述照明模块相对于所述投影物镜的偏心;第四步,测量所述投影物镜对准掩模多个辅助小孔和照明对准工装多个辅助小孔的位置偏差,计算所述照明模块相对于所述投影物镜的旋转;第五步,测量所述照明对准工装中心小孔的半影宽度以计算所述照明模块相对
专利地区:上海
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