光刻系统专利登记公告

专利名称：光刻系统

摘要：本发明提供光刻系统，所述光刻系统能够对光刻晶圆进行返工，所述光刻系统包括工艺片架、返工片架、返工单元和控制单元，其中所述返工单元用于利用返工程序对所述待返工晶圆进行光刻返工，所述控制单元用于统计所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目，用于计算所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和，在所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和等于所述第一晶圆数的情况下，所述控制单元用于锁定所述虚拟批号，将所述虚拟批号中与所述待返工晶圆对应的虚拟位置号转移至缓冲区，将所述返工晶圆对应的虚拟位置号分配对应

专利类型：发明专利

专利号：CN201010620463.X

专利申请（专利权）人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

专利发明（设计）人：莫少文;陈尧;施灵;段恒山

主权项：一种光刻系统，其特征在于，包括：工艺片架，用于放置光刻完毕晶圆；返工片架，用于放置待返工晶圆，所述待返工晶圆与所述光刻完毕晶圆对应同一虚拟批号，所述待返工晶圆和所述工艺晶圆分别对应所述虚拟批号中的不同的虚拟位置号，所述虚拟批号对应有第一晶圆数；返工单元，用于利用返工程序对所述待返工晶圆进行光刻返工；控制单元，用于统计所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目，用于计算所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和，在所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和等于所述第一晶圆数的情况下，所述控制单

专利地区：上海