基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法专利登记公告

专利名称：基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法

摘要：公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080043931.X

专利申请（专利权）人：首尔大学校 产学协力团

专利发明（设计）人：劝圣勋;郑收恩;李昇娥;张志诚;韩相权

主权项：一种光刻系统，所述光刻系统包括：至少一个目标对象，所述至少一个目标对象布置在基板上；处理器，所述处理器被构造为对所述目标对象的图像进行处理并且确定用于所述目标对象的涂覆层的光学图案；以及曝光设备，所述曝光设备被构造为将由所述处理器确定的所述光学图案提供到所述基板。

专利地区：韩国