曝光装置专利登记公告

专利名称：曝光装置

摘要：本发明的曝光装置，具备：光束点生成单元(9)，其接受光源光(L1)并以规定间隔相互错开地至少排列成2列而生成多个光束点；光扫描单元(10)，其使上述多个光束点沿它们的排列方向在各组的规定范围内进行往返扫描；图案产生器(11)，其被配置成使上述多个光束点的往返扫描的中心各自与中心轴一致，且通过对在与上述中心轴平行的对置面设置了一对电极的方柱状的由电光晶体材料构成的多个开关元件进行接通/断开驱动，从而对上述光源光(L1)进行光调制来生成规定的明暗图案；和投影透镜(12)，其将上述明暗图案投影在滤色器基板(5)

专利类型：发明专利

专利号：CN201080058060.9

专利申请（专利权）人：株式会社 V 技术

专利发明（设计）人：水村通伸

主权项：一种曝光装置，其特征在于，具备：光束点生成单元，其接受光源光并以规定间隔相互错开地至少排列成2列，从而生成多个光束点；光扫描单元，其使上述多个光束点沿它们的排列方向在各自的规定范围内进行往返扫描；图案产生器，其被配置为使上述多个光束点的往返扫描的中心各自与中心轴一致，且通过对多个开关元件进行接通/断开驱动，从而对上述光源光进行光调制来生成规定的明暗图案，其中，上述多个开关元件在与上述中心轴平行的对置面设置了一对电极，形状为方柱状，由电光晶体材料构成；和投影透镜，其将上述明暗图案投影在被曝光体上，使上述各开

专利地区：日本