有机半导体膜的制造方法及有机半导体膜阵列专利登记公告

专利名称：有机半导体膜的制造方法及有机半导体膜阵列

摘要：通过将包含有机半导体材料及溶剂在内的原料溶液供应于基板1上，并使原料溶液干燥，从而将有机半导体膜4形成于上述基板上。使用配置了多个接触面6a的接触件7，该多个接触面6a分别附着原料溶液。配置接触件，以使接触面相对于基板的表面成为一定的关系，在基板上形成多个原料溶液的液滴3，来形成那些液滴分别被保持在多个接触面上的液滴保持状态。使液滴中的溶剂蒸发，在与多个接触面对应的基板表面的各个位置上形成有机半导体膜。可以通过基于涂敷法的简单工序来实施，并且能够制作具有较高电荷迁移率的有机半导体膜。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080044409.3

专利申请（专利权）人：国立大学法人大阪大学

专利发明（设计）人：竹谷纯一;植村隆文

主权项：一种有机半导体膜的制造方法，通过将包含有机半导体材料及溶剂的原料溶液供应于基板上，并使上述原料溶液干燥，从而将有机半导体膜形成于上述基板上，其特征为，使用配置了多个接触面的接触件，该多个接触面分别附着上述原料溶液，配置上述接触件，使上述接触面相对于上述基板的表面成为一定的关系，在上述基板上形成多个上述原料溶液的液滴，来形成上述液滴分别被保持在上述多个接触面上的液滴保持状态，使上述液滴中的上述溶剂蒸发，在与上述多个接触面对应的上述基板表面的各个位置上形成上述有机半导体膜。

专利地区：日本