单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器专利登记公告
专利名称：单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器
摘要：本发明提供一种光隔离器用单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器，该光隔离器用单晶在波长1064nm以上的波长区域或低于1064nm的波长区域内，具备超过TGG单晶的法拉第旋转角，且能够实现大型化。本发明涉及的单晶的特征在于，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥取代。
专利类型：发明专利
专利号：CN201080046622.8
专利申请（专利权）人：株式会社藤仓;独立行政法人物质·材料研究机构
专利发明（设计）人：真田和夫;岛村清史;比略拉·恩卡纳西翁·安东尼亚·加西亚
主权项：一种单晶，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥即Lu取代。
专利地区：日本
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