保护膜形成用化学溶液专利登记公告

专利名称：保护膜形成用化学溶液

摘要：本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080049331.4

专利申请（专利权）人：中央硝子株式会社

专利发明（设计）人：斋藤真规;荒田忍;斋尾崇;公文创一;七井秀寿;赤松佳则

主权项：一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为在清洗表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片时，用于在至少所述凹部表面形成拒水性保护膜的化学溶剂，该化学溶剂包含拒水性保护膜形成剂，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。

专利地区：日本