微细结构的光刻方法专利登记公告

专利名称：微细结构的光刻方法

摘要：本发明提供了一种微细结构的光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一光刻，形成第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二光刻，形成第二硬掩模图形。其中。第一光刻和第二光刻的光源不同，选自i线水银弧光灯和电子束曝光系统两者之一。依照本发明的微细结构的光刻方法，将传统光学光刻技术和电子束光刻技术结合起来使用，利用电子束曝光来实现微细图形的制作，利用光学光刻来完成其他图形，这样可以既有效解决微细图形的制作问题，又不损失效率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110006476.2

专利申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所

专利发明（设计）人：王红丽;闫江

主权项：一种光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一曝光和第一刻蚀，形成第一硬掩模图形；在所述第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二曝光和第二刻蚀，形成第二硬掩模图形。

专利地区：北京