一种含有图形化DBR结构的衬底专利登记公告

专利名称：一种含有图形化DBR结构的衬底

摘要：本发明涉及一种图形化DBR结构的衬底，是在衬底平面上制出周期性的DBR图形，所述DBR图形的周期为6-20μm，在DBR图形中交替蒸镀高低折射率的介质膜。在该结构的衬底上生长外延薄膜晶体质量高、缺陷少，芯片器件出光效率高，适合大功率高亮度LED器件制备应用。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110058547.3

专利申请（专利权）人：山东华光光电子有限公司

专利发明（设计）人：沈燕;张木青;王成新;李树强;徐现刚

主权项：一种含有图形化DBR结构的衬底，其特征在于，在衬底平面上制出周期性的DBR图形，所述DBR图形的周期为6?20μm，图形尺寸为3?10μm，在DBR图形中以TiO2、SiO2、Al2O3、Ta2O5、Zr2O中的两种或三种为介质膜材，交替蒸镀在衬底的DBR图形上，交替周期为2?15个。

专利地区：山东