显示装置接触孔形成方法专利登记公告

专利名称：显示装置接触孔形成方法

摘要：本发明实施例公开了一种显示装置接触孔形成方法，包括：提供基板，基板上依次形成有第一金属层、绝缘层、第二金属层、钝化层和图案化光刻胶层；执行第一蚀刻步骤去除第一金属层上方对应的全部厚度的钝化层以及部分厚度的绝缘层，同时去除第二金属层上方对应的部分厚度的半色调光刻胶；执行灰化步骤，完全去除第二金属层上方对应的半色调光刻胶；执行第二蚀刻步骤，去除第一金属层上方深孔内保留的绝缘层，曝露出第一金属层表面，同时去除第二金属层上方浅孔内对应的钝化层，曝露出第二金属层表面。该方案可以去除光刻胶残膜均一性不好控制的缺陷，优

专利类型：发明专利

专利号：CN201110063933.1

专利申请（专利权）人：上海中航光电子有限公司

专利发明（设计）人：张建强;张容;李延辉;康亮

主权项：一种显示装置接触孔形成方法，其特征在于，包括：提供基板，基板上形成有第一金属层，第一金属层和基板上覆盖有绝缘层，绝缘层上形成有第二金属层，且第二金属层和第一金属层在垂直于基板的方向上不重合，第二金属层和绝缘层上覆盖有钝化层，钝化层上覆盖有图案化光刻胶层，其中图案化光刻胶层包括设置在第二金属层上方对应位置的半色调光刻胶区域；以所述图案化光刻胶层为掩模，执行第一蚀刻步骤，去除第一金属层上方对应的全部厚度的钝化层以及部分厚度的绝缘层，形成深孔，同时去除第二金属层上方对应的部分厚度的半色调光刻胶，形成浅孔；执行灰

专利地区：上海