形成晶片图的方法专利登记公告

专利名称：形成晶片图的方法

摘要：本发明揭示了一种形成包括裸芯的晶片的晶片图的方法，所述裸芯上形成有发光装置。从其上形成有发光装置的裸芯和所述晶片分别获得参考图像和所述晶片的图像。比较所述图像与所述参考图像，以将所述裸芯分成检查目标裸芯和非检查裸芯。通过使用被分成检查目标裸芯和非检查裸芯的裸芯上的数据形成所述晶片图。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110117544.2

专利申请（专利权）人：赛科隆股份有限公司

专利发明（设计）人：郑柄旭;朴洸佑;金秀炫

主权项：一种形成晶片图的方法，包括：从其上形成有发光装置的裸芯获得参考图像；获取包括有多个裸芯的晶片的图像；将所述图像与所述参考图像进行比较，以将所述裸芯分成检查目标裸芯和非检查裸芯；以及使用被分成检查目标裸芯和非检查裸芯的裸芯上的数据形成晶片图。

专利地区：韩国