等离子体处理装置及其处理气体供给结构专利登记公告

专利名称：等离子体处理装置及其处理气体供给结构

摘要：本发明提供一种与现有技术相比能够提高处理的面内均一性的等离子体处理装置及其处理气体供给结构。一种使发生感应耦合等离子体进行基板的处理的等离子体处理装置，包括：以覆盖处理腔室的上部开口的方式设置的、具有电介体窗的上盖；在上盖上设置的多个气体导入口；在处理腔室外的电介体窗的上部设置的高频线圈；和气体供给机构，其具有为使位于电介体窗的内侧而在上盖上支承的、具有透孔的一块板体，在板体和电介体窗之间设置的端部在透孔的缘部开口，同时通过与气体导入口连通的多个槽状的气体流路向处理腔室内从多个部位向水平方向供给处理气体。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110348617.9

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：饭塚八城

主权项：一种等离子体处理装置，其在处理腔室内产生感应耦合等离子体，对被收纳在所述处理腔室内的基板进行处理，该等离子体处理装置的特征在于，包括：以覆盖所述处理腔室的上部开口的方式设置的、具有电介体窗的上盖；设置于所述上盖的、用于向所述处理腔室内供给处理气体的多个气体导入口；设置于所述处理腔室外的所述电介体窗的上部的高频线圈；和气体供给机构，其具有以位于所述电介体窗的内侧的方式被支承于所述上盖的、具有透孔的一块板体，设置在所述板体与所述电介体窗之间的端部在所述透孔的缘部开口，并且经由与所述气体导入口连通的多个槽状的气

专利地区：日本