阵列基板及制造方法、显示装置专利登记公告

专利名称：阵列基板及制造方法、显示装置

摘要：本发明提供的阵列基板及制造方法、显示装置，涉及显示技术领域，可以简化阵列基板的制作工艺，降低生产成本。该TFT阵列基板制造方法包括：形成包括栅线、栅极、栅绝缘层和半导体有源层的图形；形成包括保护层和位于保护层的过孔的图形；形成包括像素电极、数据线、源极和漏极的图形。本发明用于显示装置的制造领域。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110353778.7

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：孙双

主权项：一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：形成包括栅线、栅极、栅绝缘层和半导体有源层的图形；形成包括保护层和位于保护层的过孔的图形；形成包括像素电极、数据线、源极和漏极的图形。

专利地区：北京