涂布方法、涂布装置以及存储介质专利登记公告

专利名称：涂布方法、涂布装置以及存储介质

摘要：本发明提供一种涂布处理方法和涂布装置。在前批次(A)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N1)和随后批次(B)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N2)通过共用的移动机构成为一体在涂布处理部(1a，1b)和喷嘴池(5)之间移动，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端部形成由两个空气层夹持稀释剂层(T)的层结构的情况下，从喷嘴(N1)对在前批次(A)的最后的晶片(WA25)供给完抗蚀剂(RA)后，向喷嘴池(5)移动喷嘴(N1)的工序的过程中，进行向喷嘴(N1)吸入空气，在该喷嘴(N1)内形成第1空气层。另外，在进行使喷嘴(N2)向随后批次(B)的

专利类型：发明专利

专利号：CN201110446759.9

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：宫田亮;原圭孝;藤村浩二

主权项：一种涂布方法，其将溶剂中溶解有涂布膜的成分的涂布液从喷嘴供给至基板来形成涂布膜，该涂布方法的特征在于，使用以在先批次用的喷嘴和随后批次用的喷嘴通过共同的移动机构成为一体并在液处理单元的上方与待机区域之间移动的方式构成的装置，包括：对被搬入至第1液处理单元的在先批次的最后的基板从在先批次用的喷嘴供给涂布液的工序；之后，将在先批次用的喷嘴与随后批次用的喷嘴一起移动至待机区域的工序；在进行所述移动工序的过程中，使在先批次用的喷嘴吸入气氛的气体，在该喷嘴内形成上侧气体层的工序；在所述待机区域将溶剂吸入在先批次用的

专利地区：日本