基板处理方法以及基板处理装置专利登记公告

专利名称：基板处理方法以及基板处理装置

摘要：本发明提供一种不使用用于形成凝固体的冷却气体，就能够良好地对基板进行清洗处理的基板处理方法以及基板处理装置。向基板(W)供给作为凝固对象液体的过冷却状态的DIW，借助落在基板(W)而产生的冲击来形成DIW的凝固体。由此，无需使用形成凝固体所需要的气体的冷媒，不需要用于生成气体的冷媒的设备，从而能够缩短处理时间，还能够抑制运转成本等。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210005467.6

专利申请（专利权）人：大日本网屏制造株式会社

专利发明（设计）人：宫胜彦;藤原直澄

主权项：一种基板处理方法，其特征在于，包括：准备工序，以液体状态准备要向基板供给的凝固对象液体，凝固体形成工序，将所述准备工序中准备的所述凝固对象液体经由空间供给至所述基板，在所述基板上形成所述凝固对象液体的凝固体，除去工序，除去所述基板上的所述凝固对象液体的凝固体；所述凝固对象液体借助从所述准备工序到所述凝固体形成工序为止所受到的外部刺激而凝固。

专利地区：日本