包含碱-反应性组分的组合物和光刻方法专利登记公告

专利名称：包含碱-反应性组分的组合物和光刻方法

摘要：提供新的包含一种或多种具有碱-反应性基团的材料的光致抗蚀剂组合物，并且其对干燥光刻技术特别有用。特别优选的本发明的光致抗蚀剂在抗蚀剂涂层显影之后可以显示出减少的缺陷。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110463316.0

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司

专利发明（设计）人：D·王;山田晋太郎;刘骢;李明琦;吴俊锡;C·吴;D·康;C-B·徐

主权项：一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，包含：(a)在基材上施加一种光致抗蚀剂组合物，其包含：(i)一种或多种树脂、(ii)光敏组分，和(iii)一种或多种包含碱一反应性基团的材料，所述一种或多种材料与上述一种或多种树脂不同；和(b)干燥曝光上述施加的光致抗蚀剂层以辐射活化光致抗蚀剂组合物。

专利地区：美国