微细构造体及其制造方法专利登记公告

专利名称：微细构造体及其制造方法

摘要：提供一种微细构造体及其制造方法，即通过以往未有的新的方法固化图案形成层，得以转印模型的凸凹图案。通过将PTFE分散液使用于成为转印部2的图案形成层2a，对形成于模型5的凸凹图案上的图案形成层2a照射电离放射线，固化该图案形成层2a。这样，本发明的微细构造体1的制造方法是通过与热加印法方式和光加印法方式完全不同的电离放射线R固化图案形成层2a的加印法方式，即通过以往未有的新的方法固化图案形成层2a，从而转印模型5的凸凹图案。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210019716.7

专利申请（专利权）人：独立行政法人日本原子力研究开发机构

专利发明（设计）人：大岛明博;田川精一;鹫尾方一;大山智子;高桥朋宏;大久保聪;小林亚畅;长泽尚胤;田口光正

主权项：一种微细构造体，其特征在于：具有转印部，其中，图案形成层在通过模型变形的状态下固化，转印上述模型的凸凹图案，上述转印部以用电离放射线照射电离放射线固化物的方式被固化。

专利地区：日本