画素结构及其制作方法专利登记公告

专利名称：画素结构及其制作方法

摘要：本发明提出一种画素结构的制作方法。在基板上形成薄膜晶体管并形成绝缘层，以覆盖基板以及薄膜晶体管。利用半调式光罩图案化绝缘层而形成凸起图案、与凸起图案连接的凹陷图案以及位于凹陷图案中的开口。凸起图案的厚度大于凹陷图案的厚度。开口贯穿凹陷图案而曝露出薄膜晶体管的汲极。形成透光导电层，以覆盖凸起图案、凹陷图案并填入开口。形成平坦层，以覆盖透光导电层。移除位于凸起图案上的部分平坦层、部份透光导电层以及开口中的部分平坦层，而使透光导电层形成画素电极图案。一种以上述方法所制作的画素结构亦被提出。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210029658.6

专利申请（专利权）人：福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司

专利发明（设计）人：邱启明;李育宗;高金字

主权项：一种画素结构的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；在该基板上形成一薄膜晶体管；在该基板上形成一绝缘层，以覆盖该基板以及该薄膜晶体管；利用一半调式光罩图案化该绝缘层，以形成一凸起图案、与该凸起图案连接的一凹陷图案以及位于该凹陷图案中的一开口，其中该凸起图案的厚度大于该凹陷图案的厚度，该开口贯穿该凹陷图案而曝露出该薄膜晶体管的一汲极；在该基板上形成一透光导电层，以覆盖该凸起图案、该凹陷图案并填入该开口；形成一平坦层，以覆盖该透光导电层；以及移除位于该凸起图案上的部分该平坦层、部份该透光导电层以及该开口中的

专利地区：福建