曝光方法、曝光装置及元件制造方法专利登记公告

专利名称：曝光方法、曝光装置及元件制造方法

摘要：本发明提供一种曝光方法、曝光装置及元件制造方法，使用干涉仪(16y)、与测量值的短期稳定性优于该干涉仪的编码器((24A，26A1)(24B，26B1))，来测量移动体(RST)在Y轴方向的位置信息，并根据该测量结果来执行既定的校正动作，以取得对编码器的测量值进行修正的修正信息。由此，能使用干涉仪的测量值来取得修正信息，该修正信息用以修正测量值的短期稳定性优于该干涉仪的编码器的测量值。又，可根据编码器的测量值与该修正信息，来以良好精度将移动体驱动于Y轴方向。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210030348.6

专利申请（专利权）人：株式会社尼康

专利发明（设计）人：柴崎佑一

主权项：一种曝光装置，通过投影光学系统以能量束使物体曝光，其特征在于，具备：移动体，能保持所述物体而在既定面内移动；编码器系统，对与所述既定面平行配置的光栅部照射光束以测量所述移动体的位置信息；测量装置，测量所述移动体的位置信息，与所述编码器系统相异；以及控制装置，能在所述物体的曝光动作中，并用从所述编码器系统取得的位置信息与从所述测量装置取得的位置信息控制所述移动体的驱动。

专利地区：日本