光刻装置及器件制造方法专利登记公告

专利名称：光刻装置及器件制造方法

摘要：本发明公开一种光刻装置及器件制造方法。本申请记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210036739.9

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：N·R·科珀;S·N·L·唐德斯;J·J·奥坦斯;J·C·范德霍文;E·C·卡迪克;S·舒勒波

主权项：一种光刻装置，包括：台；液体供给系统，配置用于向所述台上的对象与投影系统(PL)之间的空间提供液体；和位于所述台中的排放装置，配置用于去除液体；其中所述排放装置围绕所述对象的周边的至少一部分延伸，所述排放装置包括腔室、间隙和密封件，其中所述间隙(15)布置成使得所述腔室(70)与在衬底台(WT)上方的气体环境流体连通，其中所述密封件布置成将所述间隙至所述腔室(70)的入口密封，其中所述密封件布置成由所述间隙(15)中的液体来打开。

专利地区：荷兰