曝光装置、曝光方法以及器件制造方法专利登记公告

专利名称：曝光装置、曝光方法以及器件制造方法

摘要：本发明公开一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210037442.4

专利申请（专利权）人：株式会社尼康

专利发明（设计）人：柴崎祐一

主权项：一种曝光装置，用能量束使物体曝光以在上述物体上形成图案，其具备：第1移动体，保持物体并在包含彼此正交的第1轴及第2轴的既定平面内移动；第2移动体，保持物体并在上述平面内与上述第1移动体独立地移动；标记检测系统，具有于与上述第2轴平行的方向位置不同的多个检测区域，检测上述第1及第2移动体上分别装载的上述物体上的标记；以及控制装置，与对保持于上述第1及第2移动体的一方的物体的曝光并行地，一边使上述第1及第2移动体的另一方移动于与上述第1轴平行的方向、一边用上述标记检测系统检测该另一方移动体所保持的物体上的不同

专利地区：日本