图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法专利登记公告

专利名称：图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法

摘要：本发明公开一种图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法，本发明是在晶片载台(WST)从将晶片(W)搬入晶片载台(WST)的装载位置、移动至对晶片(W)开始曝光的曝光开始位置的期间，一边使对准系统(ALG1,ALG2)的至少一部分移动、一边使用该对准系统(ALG1,ALG2)检测晶片(W)上的标记。如此，即能提升曝光工艺整体的处理量。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210039778.4

专利申请（专利权）人：株式会社尼康

专利发明（设计）人：柴崎佑一

主权项：一种图案形成方法，于物体上形成图案，其特征在于，所述方法以标记检测系统检测所述物体上的标记，使用所述检测结果开始对所述物体的图案形成；且所述图案形成开始后也以所述标记检测系统检测所述物体上的标记，于所述图案形成使用所述检测结果。

专利地区：日本