显影剂组合物和形成光刻图案的方法专利登记公告

专利名称：显影剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要：显影剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了包括有机溶剂混合物的光致抗蚀剂显影剂组合物。本发明还提供了使用负型显影形成光刻图案的方法，涂覆的基板和通过所述方法形成的电子器件。本方法在电子器件的制造中找到了特别的应用性。提供了一种光致抗蚀剂显影剂组合物，包括第一有机溶剂和第二有机溶剂的混合物，其中第一有机溶剂选自环C6酮，线性或支化的C7酮，线性或支化的C5-C6的羟基烷基酯和线性或支化的C5-C6的烷氧基烷基酯，以及第二有机溶剂选自线性或支化的未取代C6-C8的烷基酯和线性或支化的C8-C9酮。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210126631.9

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司

专利发明（设计）人：Y·C·裴;李承泫

主权项：一种光致抗蚀剂显影剂组合物，包括第一有机溶剂和第二有机溶剂的混合物，其中第一有机溶剂选自环C6酮，线性或支化的C7酮，线性或支化的C5?C6的羟基烷基酯和线性或支化的C5?C6的烷氧基烷基酯，以及第二有机溶剂选自线性或支化的未取代C6?C8的烷基酯和线性或支化的C8?C9酮。

专利地区：美国