凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法专利登记公告

专利名称：凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法

摘要：凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法，光源的光依次与第一全反镜，分束镜；第二全反镜，第三全反镜；第一空间滤波器；第二空间滤波器；凹面全息光栅基片通过光连接；凹面全息光栅基片放置于二维平移装置上方的夹具内；在凹面全息光栅基片放置处放置第四全反镜，从光源出射的光线正入射到第四全反镜的中心，利用二维平移装置使旋转台顺时针方向旋转180度和90度，再次使第二全反镜反射的光线正入射到第四全反镜的中心，此时第四全反镜的中心位置即为转台中心位置。本发明精确确定转台的回转中心，并调节凹面全息光栅基片中心位

专利类型：发明专利

专利号：CN201210170225.2

专利申请（专利权）人：上海理工大学

专利发明（设计）人：王琦;李柏承;朱沛;张大伟;黄元申;倪争技;庄松林

主权项：一种凹面全息光栅制作中的曝光光路系统，包括：光源（1），第一全反镜（2），分束镜（3），第二全反镜（4），第三全反镜（5），第一空间滤波器（6），第二空间滤波器（7），凹面全息光栅基片（8），二维平移装置（12），第四全反镜；其特征在于：A)凹面全息光栅制作中的曝光光路:光源的光依次与第一全反镜（2），分束镜（3）；第二全反镜（4），第三全反镜（5）；第一空间滤波器（6）；第二空间滤波器（7）；凹面全息光栅基片（8）通过光连接；凹面全息光栅基片（8）放置于二维平移装置（12）上方的夹具（9）内；B)所述的

专利地区：上海