一种适用于无掩模光刻机的对准方法专利登记公告

专利名称：一种适用于无掩模光刻机的对准方法

摘要：本发明提出了一种适用于无掩模光刻机的对准方法。光电耦合成像器件通过工件台的平移来采集硅片上的两个及以上的对准标记，应用图像处理方法确定采集选择的对准标记相对载物台坐标的位置，由于采集到的标记图像相对硅片坐标的位置是已知的，可以建立载物台坐标系同硅片坐标系之间的变换关系方程。应用相应的对准方法求解出放置的硅片相对于首次曝光的位置，通过载片台的旋转和工件台的平移补偿来实现光刻对准过程。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210143185.2

专利申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所

专利发明（设计）人：李艳丽;胡松;陈铭勇;冯金花

主权项：一种适用于无掩模光刻机的对准方法，其特征在于：所述的无掩模光刻机的对准方法是硅片上的标记（6）经第一转向棱镜（1）和第二转向棱镜（3）转向后通过聚光镜（4）成像在光电耦合成像器件（5）的成像靶面上，经过图像处理确定采集到的标记相对载物台（9）的坐标位置一，通过承片台（7）的旋转和工件台（8）的移动能够采集到除标记（6）以外的其他标记并确定其相对载物台坐标的位置二，由于采集到的标记图像相对硅片坐标的位置是已知的，能够建立载物台坐标系同硅片坐标系之间的变换关系，应用坐标变换公式推导出所放硅片同首次曝光位置的偏

专利地区：四川