用于浸没式光刻的组合物和方法专利登记公告

专利名称：用于浸没式光刻的组合物和方法

摘要：提供了一种可用于浸没式光刻的新颖的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种基本不能与该光刻胶的树脂组分混合的材料。本发明进一步优选的光刻胶组合物包含1)Si取代基，2)氟取代基，3)超支化的聚合物和/或4)聚合物颗粒。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，可以减少光刻胶材料向与该光刻胶层接触的浸没液中的浸出。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210053600.5

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司

专利发明（设计）人：D·王

主权项：一种用来处理光刻胶组合物的方法，该方法包括：(a)在基材上施涂包含以下组分的光刻胶组合物：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，(iii)基本不能与所述一种或多种树脂混合的一种或多种材料；(b)使光刻胶层浸没式曝光于能够使该光刻胶组合物活化的辐射。

专利地区：美国