多层石墨烯垂直互连结构制作方法专利登记公告

专利名称：多层石墨烯垂直互连结构制作方法

摘要：本发明是一种多层石墨烯垂直互连结构制作方法，包括步骤：S101.在基片上制作垂直孔；S102.在所述基片的表面上制作催化层，所述催化层覆盖所述垂直孔的内表面；S103.在所述催化层上制作石墨烯层；S104.重复制作催化层和石墨烯层，直到获得所需的导电效果；S105.对垂直孔进行填充，直到获得对垂直孔所需的填充效果。通过本发明可以提高垂直互连结构的电信号传输性能。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210053684.2

专利申请（专利权）人：北京大学

专利发明（设计）人：朱韫晖;方孺牛;马盛林;孙新;陈兢;缪旻;金玉丰

主权项：一种多层石墨烯垂直互连结构制作方法，其特征在于，包括步骤：S101.在基片上制作垂直孔；S102.在所述基片的表面上制作催化层，所述催化层覆盖所述垂直孔的内表面；S103.在所述催化层上制作石墨烯层；S104.重复制作催化层和石墨烯层，直到获得所需的导电效果；S105.对垂直孔进行填充，直到获得对垂直孔所需的填充效果。

专利地区：北京