一种提高静态随机存储器读出冗余度的方法专利登记公告
专利名称:一种提高静态随机存储器读出冗余度的方法
摘要:本发明公开了一种提高静态随机存储器读出冗余度的方法,其中,包括下列步骤:提供一包括NMOS晶体管、PMOS晶体管和控制管的半导体衬底;在所述PMOS晶体管和所述控制管的表面覆盖一层光刻胶,并且对所述NMOS晶体管进行刻蚀,去除掉所述源极和漏极的硅,在所述NMOS晶体管的源极和漏极形成凹槽;进行外延生长碳化硅工艺,在所述凹槽内淀积碳化硅(SiC)。本发明在不增加现有工艺步骤的同时,降低了控制管器件的载流子迁移率,从而增大了控制管的等效电阻,进而在读取过程中,降低了节点的电位,从而提高了随机存储器的读出冗余度
专利类型:发明专利
专利号:CN201210135994.9
专利申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司
专利发明(设计)人:俞柳江
主权项:一种提高静态随机存储器读出冗余度的方法,其特征在于,包括下列步骤:提供一包括NMOS晶体管、PMOS晶体管和控制管的半导体衬底;在所述PMOS晶体管和所述控制管的表面覆盖一层光刻胶,并且对所述NMOS晶体管进行刻蚀,去除掉所述源极和漏极的硅,在所述NMOS晶体管的源极和漏极形成凹槽;进行外延生长碳化硅工艺,在所述凹槽内淀积碳化硅(SiC)。
专利地区:上海
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