非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备专利登记公告

专利名称：非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备

摘要：本发明公开了一种非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备，包括真空腔（1）和控制柜（3），真空腔（1）下方设有真空控制柜（2），控制柜（3）上设有手动操作界面（4）和全自动操作界面（5），真空腔（1）上设有侧开式炉门（18），真空控制柜（2）后方设有氩气瓶（8）和氮气瓶（9），真空控制柜（2）后面设有气体压力表（10），还内设有气体流量反馈系统（16）与气体压力表（10）相连。本发明设有气体流量反馈系统，通过辉光放电的光谱信号来确定反应气体浓度，分析、判断出气体流量速率的调整范围，精确的对气体流量控制器进行调整，使

专利类型：发明专利

专利号：CN201210161364.9

专利申请（专利权）人：文晓斌

专利发明（设计）人：文晓斌;栾亚

主权项：一种非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备，包括真空腔（1）和控制柜（3），其特征在于：真空腔（1）下方设有真空控制柜（2），控制柜（3）上设有手动操作界面（4）和全自动操作界面（5），真空腔（1）上设有侧开式炉门（23），真空控制柜（2）后方设有氩气瓶（8）和氮气瓶（9），真空控制柜（2）后面设有气体压力表（10），还内设有气体流量反馈系统（16）与气体压力表（10）相连。

专利地区：广东