测量方法、设备和衬底专利登记公告
专利名称：测量方法、设备和衬底;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司...Read more
众多高校、科技企业信任之选
众多高校、科技企业信任之选
提供基于中国版权保护中心以及各省市版权局著作权登记公告信息查询
专利名称：测量方法、设备和衬底;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司...Read more
专利名称：图案形成装置的支撑;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML控股股份有限公司...Read more
专利名称：Barco光绘机自动嵌入光绘参数的方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：东莞生益电子有限公司...Read more
专利名称：光刻设备和可移除构件;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司...Read more
专利名称：曝光装置及曝光方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：优志旺电机株式会社...Read more
专利名称：光刻设备和器件制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司...Read more
专利名称：局部曝光方法和局部曝光装置;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社...Read more
专利名称：光刻设备和器件制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司...Read more
专利名称：用于制版光刻设备的动态稳定性测量方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司...Read more
专利名称：用于光刻系统的光能量监测系统;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司...Read more
专利名称：一种制版光刻设备动态稳定性测量方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司...Read more
专利名称：无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司...Read more
专利名称：曝光方法和系统;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司...Read more
专利名称：用于测试光刻设备的照明系统光瞳的方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more
专利名称：投影式斜坡曝光光刻机装置与方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more
专利名称：投影掩膜版的测试系统;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司...Read more
专利名称：双工件台交换结构及其交换方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more
专利名称：二维长行程工作台运动系统;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more
专利名称：一种光刻照明光学系统;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more
专利名称：光刻设备及测量多光斑零位偏差的方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：上海微电子装备有限公司...Read more