半导体元件、HEMT元件以及半导体元件的制造方法专利登记公告
专利名称：半导体元件、HEMT元件以及半导体元件的制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：日本碍子株式会社...Read more
众多高校、科技企业信任之选
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专利名称：半导体元件、HEMT元件以及半导体元件的制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：日本碍子株式会社...Read more
专利名称：用于在背侧处理时保护前侧电路的耐划涂层;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：布鲁尔科技公司...Read more
专利名称：半导体用粘接剂组合物、半导体装置以及半导体装置的制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：日立化成工业株式会社...Read more
专利名称：SiC外延晶片及其制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：昭和电工株式会社...Read more
专利名称：中空阴极喷头;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：应用材料公司...Read more
专利名称：催化CVD装置、膜的形成方法和太阳能电池的制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：三洋电机株式会社;株式会社爱发科...Read more
专利名称：半导体制造装置;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：圆益IPS股份有限公司...Read more
专利名称：基板干燥装置以及基板干燥方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社...Read more
专利名称：用于碳化硅半导体的清洗方法和用于碳化硅半导体的清洗设备;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：住友电气工业株式会社...Read more
专利名称：利用可倾斜的高架RF感应源的等离子体反应器;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：应用材料公司...Read more
专利名称：试样台和微波等离子体处理装置;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社...Read more
专利名称：硅蚀刻液和蚀刻方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：三菱瓦斯化学株式会社...Read more
专利名称：太阳能电池及其制作方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：瑟雷姆技术公司...Read more
专利名称：包括功能性区域的基板结构和用于转移功能性区域的方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：佳能株式会社...Read more
专利名称：不平坦图案化的基底上的高质量非极性/半极性半导体器件及其制造方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：首尔OPTO仪器股份有限公司;韩国产业技术大学校产学协力团...Read more
专利名称：在图案化基材上藉由氢化物气相外延法(HVPE)形成三族氮化物结晶膜的方法;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：应用材料公司...Read more
专利名称：用于RF物理气相沉积的处理套件;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：应用材料公司...Read more
专利名称：蒸镀气体供给装置;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：泰拉半导体株式会社...Read more
专利名称：玻璃上的薄层元件、用于制造该薄层元件的方法及其使用;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：法国圣戈班玻璃厂...Read more
专利名称：CMOS像素中的半岛形传输栅;专利类型：发明专利;专利申请（专利权）人：美商豪威科技股份有限公司...Read more